石英玻璃在半導體工業(yè)設備上，使用溫度經(jīng)常在1000℃到1300℃之高溫狀態(tài)，在此種狀態(tài)下由于附著不純物導致失透現(xiàn)象發(fā)生，失透之部分為石英之晶質化，晶質化之變態(tài)點為275℃，當石英玻璃自高溫降自此變態(tài)溫度時，表面失透之晶質化部分與石英玻璃本身高溫之α相與低溫之β相間膨脹系數(shù)不同在急速冷卻下產(chǎn)生不透明之剝離狀更嚴重時會造成破裂現(xiàn)象產(chǎn)生。 

為使石英制品能使用更久，就必須注意防止造成石英失透產(chǎn)生的原因，而造成失透的污染源就屬堿金屬、堿土金屬、汗水、口水、油污、塵埃……等等。 

且0.1mg/cm2l}k就會造成數(shù)十倍或數(shù)百倍的失透量。因此，防止這些污染源附著在石英表面上除了不直接用空手去拿石英外，使用在高溫作業(yè)之前必先做清洗之工作以確保石英表面之潔凈度。一般石英之洗凈須要一些程序首先用純水先沖洗表面，再置入酸洗槽內(nèi)浸泡一些時間，取出后再用純水沖洗后晾干。